真空炉中的温度分布

 真空炉中的温度分布

　石墨棒加热元件布置在加热室两侧的布置法,特别适于高真空炉。在高真空气氛中,由两侧加热元件产生的热辐射区能够对工件进行均匀地加热。当炉温在400—1300℃时,加热区各点温差可达±5 K。 60年代以前,温度控制一直是热处理技术中的主要问题之一。后来由于采用了电子温控技术,这个问题已经解决。目前,从温度分布的角度来看,热区温度分布的精度是重要问题。我们几乎总是要优先考虑力求在结构上能保证获得温度均匀的热区,至于由于某种原因使热区出现暂时性的温度不均匀现象也会随保温时间的延长而消失。反之,温度较高或较低的热区会使它的有害影响贯穿于热处理的始终。下面我们介绍在这方面卓有成效,温度梯度低于0.01K/cm的真空炉结构。 真空炉除了具有温度均匀性外,还有其它一些优点。耗能少,完全避免使用有毒材料,加热、材料放气产生烟尘对环境的污染、完满地解决了材料表面氧化或畸变问题。由于有这些优点已使真空炉成为现时热处理工艺中不可少的条件。 真空中的传热 从传热来看,真空起到双重作用。